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以便確保二氧化硅價(jià)格層的品質(zhì)，能夠采用宏觀經(jīng)濟(jì)和外部經(jīng)濟(jì)的方式開(kāi)展檢測(cè)。宏觀經(jīng)濟(jì)法是用平行面日光燈觀查氧化層表層的品質(zhì)，外部經(jīng)濟(jì)可采用化學(xué)腐蝕，隨后根據(jù)光學(xué)顯微鏡開(kāi)展觀察。下面讓我們一起來(lái)來(lái)了解下二氧化硅的檢驗(yàn)方法。
大家發(fā)現(xiàn)二氧化硅對(duì)一些殘?jiān)蚬柚型鈹U(kuò)散能開(kāi)掩蔽功效，運(yùn)用這一特性和光刻工藝造就了硅元器件平面工藝。在生產(chǎn)制造中，由于要重復(fù)地開(kāi)展氧化，因此 怎樣在硅晶體表層生長(zhǎng)發(fā)育高品質(zhì)二氧化硅的技術(shù)性，便變成硅平面工藝的基本。
1、比色法：生產(chǎn)制造中發(fā)覺(jué)，不一樣厚度的氧化層，展現(xiàn)出不一樣的顏色，伴隨著厚度的提升，顏色從深灰色逐漸變到鮮紅色，當(dāng)厚度再次提升時(shí)，氧化層顏色從藍(lán)紫色到鮮紅色規(guī)律性轉(zhuǎn)變，因而大家制取了顏色與厚度中間關(guān)聯(lián)的表，用于粗略估計(jì)氧化層厚度。在氧化標(biāo)準(zhǔn)已定，加工工藝平穩(wěn)的狀況下，采用這類(lèi)方式是簡(jiǎn)易、便捷的。
2、另一種測(cè)氧化層厚度的方式是雙光干涉法，它是運(yùn)用氧化層臺(tái)階上干涉條紋數(shù)量去求氧化層的厚度，其優(yōu)點(diǎn)是設(shè)備簡(jiǎn)單，并且測(cè)量準(zhǔn)確。
測(cè)量氧化層厚度首先要制備氧化層的臺(tái)階，在樣照的二氧化硅層上放黑膠或真空泵植物油脂維護(hù)一定地區(qū)，隨后放進(jìn)鹽酸中，將未維護(hù)的二氧化硅層浸蝕掉，浸蝕時(shí)采用稀釋液的鹽酸實(shí)際效果不錯(cuò)，氧化層的臺(tái)階較寬，此外時(shí)間不適合太長(zhǎng)。浸蝕好之后，用二甲苯或甲苯將黑膠擦下去，在沒(méi)有浸蝕二氧化硅層的邊沿處展現(xiàn)一臺(tái)階，臺(tái)階越寬，顯示信息出的干涉條紋，就越清晰，測(cè)量也準(zhǔn)確。
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